科技企业加速器集聚区

项目标注：重点

项目性质：鼓励类

项目类型：绿地投资项目

投资方式：不限

所属行业：计算机、通信和其他电子设备制造业

项目有效期：两年

项目总额：50000万美元

拟吸引投资总金额：100000万美元

项目内容描述

光谷联合科技城（葛店）暨湖北科技企业加速器示范项目位于葛店开发区武黄城际铁路葛店南站西北，高新大道以北、发展大道两侧的区域范围内。项目净用地面积1580亩，总建筑面积约120万平方米。项目建成后，将吸纳500-1000家中小科技企业，培育3-5家国内外上市企业，形成60亿元年产值规模，成为国内科技企业加速器的示范项目。

建设项目优势条件

相邻的武汉高校区如武汉大学、华中科技大学、武汉理工大学等众多高校每年可以提供18万人的高素质人才，其中电子信息产业类人才超过10万，为企业提供了人才保障；葛店开发区距离武汉中心城区不过23公里，驾车至光谷广场不过20分钟，也为企业留住人才提供了保障。外部条件而言，武汉光谷产业的崛起、武汉富士康项目让电子信息产业园的建设变得十分紧迫。

项目环保简述

离子膜烧碱因产品质量高、能耗低、三废少、成本低，已成为全世界氯碱工业发展方向，市场前景可观。

投资者条件简述

1、服从园区的统一规划管理, 用地总平面规划布置应符合国家行业标准和消防安全规范； 2、投资强度不少于180万元/亩，建设期一般不超过2年； 3、建设指标：办公用地和生活设施用地不得超过总用地的7%，容积率不得低于0.8，建设密度为35%以上，绿地率不得超过20%。

来源：招商网络

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